NEWS 09 Sep 2016

『Lumionコンペ2016Japan』にてArchitect Technical Talent 賞の最優秀賞を受賞しました

弊社lid研究所所属メンバーの作品が、『Lumionコンペ2016Japan』において、最終審査に2案進み、うち1案がArchitect Technical Talent 賞の最優秀賞を受賞いたしました。

・受賞名 Architect Technical Talent 賞 最優秀賞
・作品名 未来の交流墓地
・受賞者 D3デザイン室 池田裕紀 / 大庭拓也(日建設計) チーム

また、D3デザイン室の中島寛文も最終審査まで進みました。

・作品名 未来の寛ぎ空間

・受賞作品は下記《YouTube》にてご覧頂けます。
 未来の交流墓地/池田裕紀・大庭拓也
 未来の寛ぎ空間/中島寛文